檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "diffusion".ekeyword (精準) and ckeyword.raw="銅製程"
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本論文主要研究方向為利用氧化物(鈧酸鈥,HoScOx)非晶薄膜作為擴散阻障層以提升銅鍍層在矽上的高溫穩定性質。結果顯示HoScOx(x=3~4)具有高溫穩定性且為非晶薄膜,其結晶溫度高達900℃以上…
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以RF濺鍍來成長TaNx薄膜並觀察N2/Ar流量比對TaNx薄膜之沈積速率、N/Ta原子比、電阻率及結晶結構之影響。實驗結果顯示TaNx薄膜的沈積速率會隨著N2/Ar流量比的增加而下降;TaNx薄膜…